上海市某光电器件清理芯片鑫霖环保厂，晶圆鑫霖环保阶段中带来含硅、氟的特色生产废污水，定制清理投资额1200吨/日。生产废污水营养成分繁杂，内含nm级硅粉末及氢佛酸，普通清理的方式不好及格。 化工废水成份及来源地 关键造成的污渍 ：胶体溶液硅（100-500nm粒度分布）、氟阳离子（200-300mg/L）、异丙醇 渠道环节 ：晶圆刻蚀工业废水处理方法（45%）、CMP化工机诫增加光泽工业废水处理方法（40%）、环保设备冲泡水（15%） 清理程序流程程序流程 自主创新选择"有机化学积累+特别膜分离法"方法路经： 钙盐石雕文化沉淀 ：加药系统氯化钙清掉氟阴阳离子（提取CaF2沉淀物） 斜板沉淀池发应 ：复合型水解酸化池剂做到胶体溶液硅脱稳 管式微滤 ：0.1μm直径膜挤占微细顆粒 反渗入整体 ：脱盐率>98%，利用率75% 挥发晶粒 ：浓水段进行氟化物零废气排放 最中治疗效果 氟化物盐浓度：<8mg/L（低过政府二级准则10mg/L） 硅纯度：<5mg/L 水信息造纸废水处理率：70%使用保压塔皮肤补水 危险废弃物回收利用：蒸馏食物残渣量较传统式制作工艺增多60%